Главная › Оборудование › Вакуумное оборудование (техника) › Вакуумные системы и установки › Установки травления › Установки травления с ИС плазмой › Установка RIE 200-iP

Установка RIE 200-iP

SAMCO_(RIE-200iP) system

Установка RIE-200iP

Установка травления RIE 200-iP SAMCO с загрузочной камерой использует последние технологии в области индуцируемой плазмы для выполнения высокоскоростного четвертьмикронного травления тонких пленок различного типа, используемых в процессах УБИС. Запатентованный соленоидный катод “Tornado Coil Electrode” является ключевым компонентом в создании эффективной, стабильной, высокоплотной плазмы. Система RIE-200iP позволяет выполнить точное, анизотропное травление кремния, металлов и составных полупроводниковых материалов.

Свойства:

Запатентованный соленоидный катод “Tornado Coil Electrode” производит стабильную высокоплотную плазму и обеспечивает высококачественное травление четверть-микронного образца
Высокая скорость травления улучшает производительность установки.
Низкое напряжение смещения (менее 100 В) минимизирует возможность повреждений связанных с плазменными процессами

Активный контроль температуры образца и контролируемое нагревание реактора обеспечивают стабильное воспроизведение процесса
Химическая стойкость и совместимость с хлорными процессами расширяют диапазон возожных

Области применения:

Анизотропное травление кремниевых пленок для приборов УБИС.
Травление металлических пленок.
Травление GaAs, InP и других составных полупроводниковых пленок.
Изготовление волноводных устройств.
Производство микроэлектромеханических систем (MEMS).

Технические характеристики RIE-200iP

Рабочая камера.
Материал-алюминий, диаметр 440 м, поверхность с анти коррозионным покрытием, контролируемая температура.

Электроды.
Нижний электрод:
— материал — нержав. Сталь, диаметр 208мм, водяное охлаждение;
— электроcтатичный «chuck» (крепление) для 6-дюймовых пластин;
— гелиевое охлаждение тыльной стороны.
Электрод индуцируемой плазмы:
— медный соленоидный катод «Tornado Coil Electrode», диаметр 180 мм, с водяным охлаждением.

Высокочастотная мощность.
Индуцируемо-связанная плазма(ICP):
— 13,56 МГц, 1 кВт, кристаллический осциллятор;
— автоматическое согласование.
Нижний электрод:
— 13,56 МГц, 300 Вт, кристаллический осциллятор;
— автоматическое согласование.

Камера загрузки:
— материал — алюминий, габаритные размеры: 520 мм(Ш)х440 мм(Д)х205 мм(В);
— ручное открытие/закрытие камеры загрузки;
— перемещение пластин при помощи вакуумного робота.

Вакуумная система.
Линия вакуумного процесса:
— химическая серия, составной турбомолекулярный насос 1000 л/мин;
— химическая серия, двух ступенчатый форвакуумный насос 650 л/мин;
— автоматический контроль давления для замкнутого цикла с моторизированным шибером.
Загрузочная камера:
— 2ух ступенчатый роторный насос 840 л/мин.

Измерение давления и управление.
Рабочая камера:
— ионизационный вакуумметр (10 до 10^-6 Па);
— ёмкостной измеритель (13,3 до 1,33×10^-2 Па).
Загрузочная камера:
— кристаллический вакуумметр (Атмосфера до 10^-2 Па).

Входные газовые линии:
— 4 расходомера (стандартно).

Рабочий процесс
— полностью автоматическое управление, «управление одной кнопкой» или полностью ручное управление;
— система блокировки;
— возможность хранения набора команд (в сумме до 100 команд);
— до 10 последовательных шагов для каждого набора команд.

Обязательные требования для оборудования.
Система питания:
— 380 В АС трех фазная, 75 Ампер;
— газовые процессы: 0,1 МПа;
— азотная продувка: 0,1 МПа 12 л/мин;
— гелий: 0,1 МПа;
— сжатый воздух: 0,5-0,7 МПа;
— охлаждающая вода: 0,1-0,2 МПа, 2л/мин.

Выходной патрубок: NW25×2.

Габаритные размеры:
— 1000×1375 × 1670(мм).

Опции:
— запись данных;
— дополнительные газовые линии;
— система оповещения окончания процесса;
— модернизация до 8″ ESC;
— система фильтрации масла.

Установка RIE 200-iP

Отправить запрос