Главная › Оборудование › Вакуумное оборудование (техника) › Вакуумные системы и установки › Установки травления › Установки плазмохимических процессов травления › Установки плазмохимических процессов травления и осаждения серии STE RIE и ICP

Установки плазмохимических процессов травления и осаждения серии STE RIE и ICP

http://www.SemiTEq.ru

Установки плазмохимических процессов травления и осаждения серии STE RIE и ICP

Установки предназначены для травления и осаждения диэлектриков с использованием комбинированного индуктивно-связанного и емкостного разряда.

Обзорная брошюра в формате pdf (eng)

Установка STE RIE84

STE RIE84 является упрощённым вариантом установки для травления полупроводниковых, диэлектрических или металлических слоев в плазме емкостного разряда. Установка предназначена, прежде всего, для проведения эффективных лабораторных исследований и разработок.

Установка STE ICPe68/68L

Установки представляют собой автоматизированные станции для проведения процессов плазмохимического травления в комбинированной плазме емкостного и индуктивного разряда. Установки предназначены как для интенсивных исследований и разработок, так и для мелкосерийного выпуска продукции в составе пилотной производственно-технологической линии. В STE ICPe68 полностью реализованы все современные особенности процессов контролируемого плазмохимического травления полупроводниковых и диэлектрических слоев.

Установка STE ICPd81/81L

Установки представляют собой автоматизированные станции для проведения процессов плазмохимического осаждения диэлектриков (SiNx, SiO2 и т.п.) в плазме индуктивного разряда. Предусмотрена возможность встраивания в технологический кластер.

Установки плазмохимических процессов травления и осаждения серии STE RIE и ICP

Отправить запрос