Главная › Оборудование › Вакуумное оборудование (техника) › Вакуумные системы и установки › Установки осаждения › Установки атомно-слоевого осаждения (ALD)

Установки атомно-слоевого осаждения (ALD)

Усовершенствованная система атомно-слоевого осаждения компании SVTA (США) создана на основе реактора вязкого потока для осаждения сверхтонких пленок. Процесс роста контролируется пакетом программного обеспечения для Windows. Базовая модель оснащена двумя газовыми линиями и работает с подложками диаметром до 12” (30см). Все оборудование размещено под вакуумом в компактном корпусе, что обеспечивает безопасность системы.
	Обзорная брошюра на английском языке.
Применения: High K диэлектрики Нанопокрытия Слои изменения поверхности Герметизация устройств Фотонные кристаллы
Дополнительные компоненты: Удаленный источник плазмы Система подачи озона Кварцевый кристальный монитор Квадрупольный масс-спектрометр Датчик температуры реального времени Эллипсометр Загрузочная камера		Технические характеристики Рабочий вакуум: от 1 Торр до сверхвысокого вакуума Две нагреваемые газовые линии (возможно увеличение до 12) Способ инжектирования газа: bubbler and direct draw Размер образцов: стандартные – до 4”(100мм), дополнительно до 12”(300мм) Нагреватель подложек: до 500^оС (более высокая температура доступна как опция)
	Вы можете ознакомиться со списком научных статей, которые мы можем выслать для вас по электронной почте по вашему запросу.

Установки атомно-слоевого осаждения (ALD)

Отправить запрос