Высокопроизводительные установки

Установки осаждения от компании CHA Industries

Обзорная брошюра по теме “Производственные установки “.

В этом разделе представлены установки компании СНА Industries (США). Эта компания, основанная в 1954, специализируется на дизайне и производстве полной линейки высоковакуумных систем осаждения, а также оборудования и установок для точного нанесения тонко-пленочных покрытий.СНА первой изобрела и начала выпускать планетарный механизм вращения подложек, а сегодня предлагает варианты установок с планетарным, «lift-off” и «flip” механизмами.

Установки MARK 40 и MARK 50 сегодня являются «де-факто» стандартом в полупроводниковой промышленности. Они обеспечивают однородность нанесения пленки /-3% и лучше и воспроизводимость от подложки к подложке /- 3% и лучше. Обе установки выпускаются в различных модификациях: от полностью автоматизированного, компьютерного управления до ручного, что позволяет их использовать, как для массового производства, так и для научных разработок и исследований. MARK 50 имеет на 50% большую производительность, чем MARK 40.

Установка осаждения MARK 50:

Среди особенностей экономичной системы MARK 50 можно выделить высокую скорость загрузки и разгрузки, широкий диапазон эксплуатационной гибкости и поддержку подложек из множества различных материалов и разных размеров. Эффективность дизайна, легкость в управлении и несравнимая надежность делают эту систему прекрасным выбором для широкого ряда производственных применений.

Установки осаждения от компании Kurt J. Lesker

Компания Kurt J. Lesker создала первую напылительную установку 20 лет назад в головном офисе в городе Питсбург. С тех пор, подразделения технологического оборудования расположенные в США и Великобритании выпустили сотни установок, используя инженерные, производственные и площади чистых комнат для создания установок PVD и CVD согласно требованиям заказчика.

Сегодня компания предлагает три различных варианта системных платформ атомно-слоевого осаждения под управлением ЭВМ для научных исследований и опытно-конструкторских разработок. От компактных автономных установок до встраиваемых установок с несколькими технологиями напыления. Каждая из систем может включать в себя: магнетронное напыление (высокочастотное, постоянного тока и импульсное), расположение источников может быть как линейным, так и круговым, ионный источник для очистки подложек и вспомогательного напыления, электронно-лучевое напыление, тепловое испарение для металлов и органических соединений, а также пульсационная лазерная абляция.

Установки PVD 75™, PVD 225 и PVD 250

Спроектированы для производственных и учебных научно-исследовательских применений.

Скачать интерактивную 3D модель установки PVD-75

Модель можно вращать, масштабировать, выделять компоненты для подробной информации, делать отдельные части прозрачными для просмотра невидимых частей и многое другое при помощи бесплатного плагина IPA Webview.

Скачать 3D модель PVD-75

Скачать интерактивную 3D модель установки PVD-250

Модель можно вращать, масштабировать, выделять компоненты для подробной информации, делать отдельные части прозрачными для просмотра невидимых частей и многое другое при помощи бесплатного плагина IPA Webview.

Скачать 3D модель PVD-250

Требуется MS Internet Explorer версии 5.5 или выше и плагин IPA Webview