Системы очистки ультрафиолетом и озоном

Модель UV-1 от компании SAMCO является компактной настольной системой ультрафиолетовой (УФ) и озоновой очистки, которая не повредит чувствительные электронные приборы. Простая в управлении система использует уникальную комбинацию УФ-излучения, озона и тепла для того, чтобы осторожно, но эффективно удалять органические материалы с различных подложек таких материалов как кремний, арсенид галлия (GaAs), сапфир, керамика, кварц, стекло и металлы.

Презентация от компании производителя в формате pdf (eng)

Универсальная установка UV-1 предусмотрена для множества применений, таких как очистка подложек, удаление пены с фоторезиста, улучшение смачиваемости, и ультрафиолетовой вулканизации. Работая при атмосферном давлении, установка UV-1 исключает необходимость в использовании громоздких вакуумных систем с высокими эксплуатационными расходами.

Габаритные размеры

Основная часть: 450(Ш) x 400(Д) x 440(В) мм

• Устранение органических загрязнений
• Предочистка подложек перед напылением/осаждением
• Удаление пены с фоторезиста и полиимидов
• Обработка поверхностей для лучшего сцепления
• Увеличение охвата смазки на магнитных дисках
• Вулканизация ультрафиолетовым излучением
• Выращивание тонких стабильных оксидных пленок на кремнии и арсениде галлия (GaAs)

• Система предусмотрена для различных образцов и подложек размером до 150мм (6”).
• Компактное исполнение для минимизации занимаемого рабочего места.
• Простое, интуитивно-понятное управление.
• Управление температурой (От температуры окружающей среды до 300^оС)
• Полностью сухой процесс позволяет избежать замыкания электрических цепей.
• Процесс при атмосферном давлении
• Система блокировки двери
• Включает в себя модуль катализатора озона (“ozone killer”)

Простая в управлении система использует уникальную комбинацию ультрафиолетового излучения, озона и тепла для того, чтобы осторожно, но эффективно удалять органические материалы с различных подложек таких материалов как кремний, арсенид галлия (GaAs), сапфир, керамика, кварц, стекло и металлы.

Универсальная установка UV-2 предусмотрена для множества применений, таких как очистка подложек, удаление пены с фоторезиста, улучшение смачиваемости, и ультрафиолетовой вулканизации. Работая при атмосферном давлении, установка UV-2 исключает необходимость в использовании громоздких вакуумных систем с высокими эксплуатационными расходами. Данная система имеет европейский знак соответствия (СЕ) и сертифицирована лабораторией по технике безопасности (UL) США.

Габаритные размеры

Основная часть: 610(Ш) x 572(Д) x 426(В) мм

• Устранение органических загрязнений
• Предочистка подложек перед осаждением (Например: GaAs перед MBE, сапфир перед HgCdTe)
• Удаление пены с фоторезиста и полиимидов
• Обработка поверхностей для лучшего сцепления
• Окончательная очистка перед прикреплением подложки
• Вулканизация ультрафиолетовым излучением
• Выращивание тонких стабильных оксидных пленок (Ge, Si)
• Очистка AFM наконечников

• Система предусмотрена для различных образцов и подложек размером до 200мм (8 дюймов).
• Компактное исполнение для минимизации занимаемого рабочего места.
• Простое, интуитвно-понятное управление.
• Прогреваемая платформа увеличивает скорость очистки/счистки
• Широкий диапазон рабочих температур (от окружающей среды до 300^оС)
• Полностью сухой процесс позволяет избежать замыкания электрических цепей.
• Процессы при атмосферном давлении – не требуют вакуумной системы
• Система блокировки выдвижного ящика загрузки гарантирует нерабочее состояние системы, если он открыт
• Автоматическая система очищает камеру UV-2 после каждого запуска.
• Включает в себя модуль катализатора озона (“ozone killer”)
• Герметизация камеры во время рабочего процесса предотвращает загрязнения из атмосферного воздуха

nсмачиваемости и повышения сцепления. UV-300 является чистой, надежной и легкой в управлении системой. В отличии от систем плазменной очистки, данная система не повредит чувствительную электронику и не потребует сложной вакуумной системы с высокими эксплуатационными расходами. А также, эта система не использует грязных, корродирующих и токсичных химических веществ.

Габаритные размеры: Основная часть: 550(Ш) x 430(Д) x 605(В) мм

Применения: Устранение органических загрязнений Предочистка подложек перед осаждением (Например: GaAs перед MBE, сапфир перед HgCdTe) Удаление чернил с подложек Удаление пены с фоторезиста и полиимидов Обработка поверхностей для лучшей адгезии Увеличение охвата смазки на магнитных дисках Вулканизация ультрафиолетовым излучением Выращивание тонких стабильных оксидных пленок на кремнии и арсениде галлия Свойства: Большая рабочая камера приспособлена для подложек диаметром до 300 мм. Вращаемая подставка для подложек обеспечивает однородность в очистке/счистке с поверхности подложек Встроенный модуль «ozone killer» позволяет устранить озон из выхлопа Простота в управлении Управление температурой (от комнатной  до 300оС) Полностью сухой процесс предотвращает замыкания  электрических цепей Работа при атмосферном давлении Безопасная блокировка двери

Эта высокопроизводительная система обеспечивает скорость золения фоторезиста до 5000 A/мин и обладает многочисленными модулями безопасности для защиты оператора и самой системы. Установка UV-300H работает при  атмосферном давлении и не требует громоздкой вакуумной системы с высокими эксплуатационными расходами.

Габаритные размеры: Основная часть: 698(Ш) x 800(Д) x 1306(В) мм

Применения: Счистка фоторезиста и полиимида Устранение чернил с подложек СППЗУ без удаления программ Устранение органического загрязнения с подложек перед напылением тонких пленок Подготовка поверхностей для смазки или фоторезиста Удаление пены фоторезиста и резиста электронного луча Очистка перед соединением подложек Свойства: Использует уникальную комбинацию ультрафиолетового света, озона высокой концентрации и контролируемый прогрев для эффективной очистки Мягкий, полностью сухой рабочий процесс не повредит электрические цепи Легкая загрузка подложек в виде выдвижного шкафа Компактное исполнение системы, использующее минимальное количество рабочего места Контроль температуры (от комнатной до 300оС) Работает при атмосферном давлении – вакуумная система не требуется Система безопасности включает в себя: блокировку выдвижного ящика, автоматический цикл очистки рабочей камеры, блокировку давления, блокировку охлаждаемой воды, газоочиститель для озона и система аварийного отключения

Система очистки ультрафиолетом и озоном UV-300НС Установка UV-300HC является полной системой для сухой очистки ультрафиолетом и озоном оснащенной кассетным механизмом за зачистки фоторезиста и устранения всех типов органических соединений, используя как ультрафиолетовое излучение, так и озон высокой концентрации. Эта система включает в себя две кассеты с 12 лотками в каждой кассете. Габаритные размеры: Основная часть: 1100(Ш) x 1740(Д) x 1625(В) мм Применения: Счистка фоторезиста и полиимида Устранение чернил с подложек СППЗУ без удаления программ Устранение органического загрязнения с подложек перед напылением тонких пленок Подготовка поверхностей для смазки или фоторезиста Удаление пены фоторезиста и резиста электронного луча Очистка перед соединением подложек Свойства: Использует уникальную комбинацию ультрафиолетового света, озона высокой концентрации и контролируемый прогрев для эффективной очистки Возможность работы от кассеты к кассете. Максимум 2 кассеты с 12 лотками на каждую кассету Оснащена рукой роботом для перемещения Кварцевые 205мм лотки с девятью 50 мм ячейками Также система имеет подставку для охлаждения Два генератора для озона высокой консетрации Контроль температуры (от комнатной  до 300oС) Работает при атмосферном давлении – вакуумная система не требуется Сенсорная панель управления