+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Установки травления с ИС плазмой

Установки для Реактивно-ионного травления с индуцировано-связанной плазмой (ICP RIE) представляют собой системы, где плазма генерируется от отдельного RF источника, энергия которого передается в плазму посредством индукционной связи, а автосмещение нижнего электрода для управления энергией бомбардирующих подложку ионов осуществляется от другого источника. Такой независимый контроль параметров плазмы и энергии ионов позволяет расширить процесс травления для более широкого круга материалов: от травления кремния или хрома, где процесс более химический, чем физический, до процессов травления сапфира, где требуется больше бомбардировка ионами, чем подача реактивных газов. Генерация плазмы в таких установках осуществляется от 2 МГц ВЧ-источника, а автосмещение от 13,56 МГц ВЧ источника.

Для улучшения процессов травления в установках с индуцированно-связанной плазмой (ICP) компания SAMCO разработала и применяет электрод специальной конструкции Tornado ICP, который эффективно генерирует однородную плазму высокой плотности. Это обеспечивает точное травление шаблона с высокой селективностью между маской и материалами травления, а также превосходную однородность глубокого травления.

Для ICP RIE процессов компания SAMCO предлагает рабочие лошадки как RIE-10iP или установки для глубокого травления Si или SiO по Bosch-процессу, есть в линейке компании и высокопроизводительные установки работающие с кассеты на кассету, например RIE-330iPC.

Установка RIE-200iPС

Установка RIE-200iPB

Установка RIE 200-iP



группа компаний

КРИОСИСТЕМЫ

 

 

© 2002-2017

ГК «КРИОСИСТЕМЫ»

Все права защищены

КОНТАКТЫ

115088, Россия, Москва

"IQ-park", ул. Угрешская,

д.2, стр.22

 

+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Товар добавлен в запрос!
Список отобранного вы можете найти и отредактировать за кнопкой "Отправить запрос".