+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Установки атомно-слоевого осаждения (ALD)

Усовершенствованная система атомно-слоевого осаждения компании SVTA (США) создана на основе реактора вязкого потока для осаждения сверхтонких пленок. Процесс роста контролируется пакетом программного обеспечения для Windows. Базовая модель оснащена двумя газовыми линиями и работает с подложками диаметром до 12” (30см). Все оборудование размещено под вакуумом в компактном корпусе, что обеспечивает безопасность системы.
ALD_system2
pdf Обзорная брошюра на английском языке.
Применения:

  • High K диэлектрики
  • Нанопокрытия
  • Слои изменения поверхности
  • Герметизация устройств
  • Фотонные кристаллы
Дополнительные компоненты:

  • Удаленный источник плазмы
  • Система подачи озона
  • Кварцевый кристальный монитор
  • Квадрупольный масс-спектрометр
  • Датчик температуры реального времени
  • Эллипсометр
  • Загрузочная камера
Технические характеристики

  • Рабочий вакуум: от 1 Торр до сверхвысокого вакуума
  • Две нагреваемые газовые линии (возможно увеличение до 12)
  • Способ инжектирования газа: bubbler and direct draw
  • Размер образцов: стандартные — до 4”(100мм), дополнительно до 12”(300мм)
  • Нагреватель подложек: до 500оС (более высокая температура доступна как опция)
pdf Вы можете ознакомиться со списком научных статей, которые мы можем выслать для вас по электронной почте по вашему запросу.


группа компаний

КРИОСИСТЕМЫ

 

 

© 2002-2017

ГК «КРИОСИСТЕМЫ»

Все права защищены

КОНТАКТЫ

115088, Россия, Москва

"IQ-park", ул. Угрешская,

д.2, стр.22

 

+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Товар добавлен в запрос!
Список отобранного вы можете найти и отредактировать за кнопкой "Отправить запрос".