+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Установки химического и плазмохимического осаждения

Представляем установки химического осаждения паров (СVD) серии EasyTube для синтеза наноматериалов и напыления тонких пленок от компании FirstNano (США). Установки EasyTube спроектированы и производятся в модульном исполнении. Установки предлагаются в стандартной конфигурации, которая включает в себя систему управления на основе ПК, программируемые процессы, автоматическую загрузку и комплексную систему блокировок, как самой установки, так и программного обеспечения.Дополнительные опции для каждой из систем EasyTube позволяют конфигурировать систему в соответствии с конкретными задачами пользователя. Они включают в себя различные виды нагрева, выбор размера подложек, полупродукта химических реакций, рабочего давления, плазмы, типов загрузочных камер и др. Установки могут быть усовершенствованы на месте, в соответствии с постоянно растущими новыми требованиями и задачами.Установки серии EasyTube обеспечивают надежность, гибкость и безопасность комплекса оборудования. Компания FirstNano предоставляет рецепты для синтеза наноматериалов и напыления тонких пленок в комплекте с установкой. Также компания предлагает газовые шкафы EasyGas и системы кондиционирования газов EasyExhaust, в качестве дополнений к установкам.Предлагаемые системы EasyTube для выращивания наноматериалов: — Вертикальная установка атомно-слоевого осаждения для производства углеродных нанотрубок. — Горизонтальная установка для производства нанотрубок — Установка для производства многослоевых углеродных нанотрубок — Кремниевые нанопровода — Односторонние нанотрубки — Вертикальная установка для производства углеродных нанотрубок. — Нанопровода ZnO соединения
EasyTube 101 EasyTube 2000
УНТ Графен Нанопровода Оксиды Отжиг Эпитаксия APCVD LPCVD Нитриды
1Описание установки EasyTube 101 в формате .pdf (eng)
УНТ ZnO GaN Окисление Отжиг Si SiGe SiO2 Si3N4 Быстрая термообработка
2 Описание установки EasyTube 2000 в формате .pdf (рус)
1Описание установки EasyTube 2000 в формате .pdf (eng)
EasyTube 3000 EasyTube 6000
УНТ ZnO III-V Si3N4 Окисление Поликремний Si GaN RTP SiGe Отжиг Графен Ge BN SiO2 Si3N4 тонкие пленки
1Описание установки EasyTube 3000 в формате .pdf (рус)
УНТ Диффузия Отжиг Полисиликон Сухое и влажное окисление SiNW SiO2 Si3N4
Вы можете ознакомиться со списком научных статей, которые мы можем выслать для вас по электронной почте по вашему запросу. Подробная информация по всем установкам от компании FirstNano на http://www.firstnano.com/products/ Установки EasyTube также используются для напыления тонких пленок, включая SiGe, аморфный кремний, микрокристаллический кремний, оксиды кремния, нитриды кремния и др. Ниже представлены технические характеристики одной из установок модельного ряда EasyTube:
EasyTube 3000 Усовершенствованная установка химического осаждения каталистических углеродных нанотрубок и нанопроводов.Синтез несметного количества наноструктур и тонких пленок.

Система Easytube EasyTube 3000 от компании FirstNano на сегодняшний день является совершенной системой термического осаждения химических паров для синтеза наноматериалов и напыления тонких пленок. EasyTube EasyTube 3000 позволяет синтезировать бесчисленное множество наноструктур и тонких пленок, включая SWCNT (односторонние углеродные нанотрубки), MWCNT (многосторонние углеродные нанотрубки), графен, полупроводниковые нанопровода: Si, Ge, ZnO, GaN, BN и тонкие пленки при помощи гидридов, жидких и твердых заготовок. В настоящее время EasyTube используется для выращивания наноматериалов в производствах связанных с наноэлектроникой, полупроводниковыми, фотоэлектрическими, композитными материалами, MEMS и многими другими.

easy_tube3000
Дополнительные модульные опции EasyTube 3000

Программное обеспечение для управления набором команд посредством ПК Установкой EasyTube 3000 удобно управлять при помощи компьютерного программного обеспечения, которое хранит данные для точной воспроизводимости операций. Графический интерфейс программы позволяет пользователям пользоваться запрограммированными рецептами операций, редактировать и создавать новые рецепты, а также просматривать данные выполняемых операций в режиме реального времени.

Инновационная модульная платформа

Установки EasyTube 3000 на базе модульных платформ обеспечивает необходимые ключевые рабочие компоненты и предоставляет достаточно места для размещения дополнительных опций, таких как загрузочная камера, дистанционная вч-плазма, вакуумная печь, держатель подложек и многое другое для максимальной гибкости системы.

Загрузка нанотрубок

Соответствие самым строгим стандартам безопасности На сегодняшний день, EasyTube 3000 спроектирована в соответствие с самыми строгими стандартами безопасности. Дополнительная загрузочная камера обеспечивает наилучшую безопасность при работе с химическими соединениями и исключает атмосферное загрязнение рабочей камеры. Система позволяет работать с многочисленными самовоспламеняющимися и токсичными соединениями, включая силан, тетрагидрид германия, диборан, фосфин, органическими соединениями и многими другими.

Высокопроизводительная печь FastCool

Установка EasyTube 3000 обеспечивает высокую производительность. Загрузочная камера (как опция) обеспечивает быстрый нагрев и охлаждение посредством перемещения образцов из охлажденной загрузочной камеры в нагретую рабочую камеру. Быстрый процесс обогрева улучшает качество производимых односторонних углеродных нанотрубок (SWCNT). Резистивная печь FastCool открывается автоматически и поэтапно на стадии охлаждения, что позволяет уменьшить время охлаждения с >3 часов до менее одного часа. С технологиями управления HotLoad и FastCool типичный процесс синтеза углеродных нанотрубок выполняется в течение одного часа.

Удаленная ВЧ плазма

Возможности системы «под ключ»Компания FirstNano предлагает систему «под ключ» с поддержкой такого оборудования как шкафы для хранения газов и системы кондиционирования выхлопных газов. Все главные компоненты, поставленные одним производителем, позволяет улучшить работоспособность системы. Шкафы для хранения и эксплуатации газов EasyGas позволяют хранить широкий диапазон токсичных газов. Система EasyExhaust термически пиролизует и производит влажную зачистку выхлопов.

Работоспособность проверенных в области применения систем и солидная база клиентов позволяют утверждать, что компания FirstNano является лидером в развитии нанотехнологий для передовых исследовательских центров.

Система подачи газа

Стандартная конфигурация
  • Компьютерное программное обеспечение, позволяющее контролировать операции, хранить данные, работать с интерфейсом безопасности и генератором рецептов для компьютеров на базе MS Windows.
  • Запрограммированные рецепты для SWCNT,DWCNT, полупроводниковых нанопроводов, диэлектрических и SiGe тонких пленок
  • Резистивная печь для температур >1100oC
  • Высокая производительность системы с печью FastCool
  • Запатентованная каскадная система контроля температуры в режиме реального времени
  • Консольная система автоматической загрузки
  • Кварцевая реакционная камера диаметром 7,5 см (3”)
  • Газовые линии сверхвысокого давления с расходомерами – 4шт.
  • Программируемые предупреждения и сигналы тревоги
  • Гарантия 12 месяцев
  • Интуитивно понятное ПО и система взаимоблокировки устройств
  • Сертификация Semi – S2/S8 и CE®

Высокопроизводительная загрузочная система

Инфракрасная печь

Применения:
1
2
3
4
5
Вертикальные многостенные УНТ Катализатор — Fe Высота до 18 мм (нынешний мировой рекорд) Кремниевая подложка Полупродукт C2H4 / H2O Горизонтальные одностенные УНТ Катализатор Fe / Mo Длина 50 — 100 микрон Подложка: кварц Полупродукт CH4 Вертикальные одностенние УНТ Катализатор Fe Высота 5 микрон Подложка: кремний Полупродукт C2H4 Вертикальный ZnO нанопровод Катализатор Au Высота 10 микрон Подложка: сапфир Полупродукт: твердый материал GaN Нанопровод Катализатор Au Длина 10 — 20 микрон Подложка: сапфир Полупродукт: твердый материал
Комплектация установок EasyTube

Системы химического осаждения EasyTube

Наименование

ET2000 (Установка термического напыления)

ET3000 (Установка термического напыления)

ET4000 (Установка плазмохимического осаждения)

ET2000 (Установка термического напыления)

Тип реактора Трубная печь с нагревом стенок Трубная печь с нагревом стенок Металлическая камера с охлаждением стенок Многостопная печь с обогревом стенок
Метод нагрева Резистивный или инфракрасным излучением Резистивный, инфракрасным излучением или ВЧ обогрев Обогрев держателя подложек инфракрасным излучением или резистивный обогрев Резистивный
Максимальная температура 1100оС 1100оС (Резистивный)>1500 оС ВЧ обогрев 900оС 1100оС
Размер подложек, см (дюймах) 5 (2”) 5, 10, 15 (2”,4”, 6”) 5, 10, 15 (2”,4”, 6”) 10, 15, 20 (4”,6”, 8”)
Возможность вращения подложек Нет Как опция Нет Как опция
Стандартный вакуум Как опция Как опция Да Как опция
Сверхвысокий вакуум Нет Как опция Как опция Нет
Загрузочная камера Нет Как опция Как опция Нет
Плазма Нет Дистанционная ВЧ плазма (как опция) ВЧ и/или DC плазма ВЧ плазма (как опция)
Газовые линии До 8-и До 12-и До 12-и До 6-и для каждой трубки
Заготовки жидкостей 1-2 До 4-х (как опция) До 4-х (как опция) 1 для каждой трубки (как опция)
Заготовки твердых веществ Как опция Как опция Нет Как опция
Габариты системы, мм 1630х760х1520(ДхШхВ) 2440х815х1780(ДхШхВ) 2440х815х1780(ДхШхВ) 3000х1070х2250(ДхШхВ)
Процессы
Наноматериалы Углеродные нанотрубки, ZnO, GaN, Si, Ge Углеродные нанотрубки, Si, Ge, ZnO, GaN, BN, графен Углеродные нанотрубки, SiNW Углеродные нанотрубки, SiNW
Прочие Окисление, RTP, отжиг III-V, тонкие пленки SiGe, окисление, отжиг, RTP, полисиликон, SiO2, Si3N4 Аморфный Si, u-Si, полисиликон, DLC, SiO2, Si3N4 Сухое и жидкое окисление, диффузия, отжиг, полисиликон, SiO2, Si3N4
*Габаритные размеры установки ET3000 могут увеличиться до 3050х815х1780мм при подключении дополнительных опций.



группа компаний

КРИОСИСТЕМЫ

 

 

© 2002-2017

ГК «КРИОСИСТЕМЫ»

Все права защищены

КОНТАКТЫ

115088, Россия, Москва

"IQ-park", ул. Угрешская,

д.2, стр.22

 

+7 (495) 663-30-39

+7 (495) 663-30-67

Товар добавлен в запрос!
Список отобранного вы можете найти и отредактировать за кнопкой "Отправить запрос".